簡(jiǎn)介及特點(diǎn):

本設(shè)備主要用于 RTR 除膠渣清潔制程，設(shè)備可單列 250mm 或單列 520mm 搭配功能，采用磁流體軸密封裝置，主要用于 RTR UV 鐳射之通孔或盲孔制程中孔內(nèi)膠渣清潔，為后工序電鍍提高良率保證，同時(shí)可以用于 RTR 顯影制程之后的殘膜清潔，精細(xì)線路因存在殘膜導(dǎo)致后續(xù)蝕刻的開短路，采用 RTR plasma 清潔，可提高鍍銅及線路良率。

優(yōu)勢(shì):

?      適用 250mm~520mm 寬幅的卷對(duì)卷產(chǎn)品

?      真空腔體內(nèi) EPC 糾偏控制，保證收料精度 ±0.5mm

?      專利磁流體密封結(jié)構(gòu)

?      卷對(duì)卷恒張力恒速度控制

?      獨(dú)立等離子反應(yīng)區(qū)隔離，減小等離子對(duì)其他機(jī)構(gòu)的影響

?      傳動(dòng)件及絕緣件均采用高頻陶瓷材質(zhì)